Strom Graben, FDMS86255, onsemi Der FDMS86255 wird in einem fortschrittlichen PowerTrench-Prozess hergestellt, der die Shielded Gate-Technologie beinhaltet. Dieser Prozess wurde für den On-State-Wi...
Strom Graben, FDMT1D3N08B, onsemi Der FDMT1D3N08B wird in einem fortschrittlichen PowerTrench-Prozess hergestellt. Fortschritte in der Silizium- und Dual CoolTM-Gehäusetechnologie wurden kombiniert...
NFET 40V 558A 0,45mOhm PQFN88 * Kleine Grundfläche (8x8 mm) für kompaktes Design * Niedriger RDS(on) zur Minimierung von Leitungsverlusten * Niedrige QG und Kapazität zur Minimierung der Treiberver...
N-Kanal-MOSFET, FDMS004N08C, ON Semiconductor Features * MOSFET-Technologie mit abgeschirmtem Gate * MAX RDSon = 4.0 mOhm @ VGS=10V, ID=44A * 50% geringere Qrr als andere MOSFET-Anbieter * Geringer...
Strom Graben, FDMS8D8N15C, onsemi Die FDMS8D8N15C wird mit dem fortschrittlichen PowerTrench-Verfahren hergestellt, das die Shielded-Gate-Technologie beinhaltet. Dieser Prozess wurde optimiert, um ...